一、整体组成 PTFE 清洗槽（槽体）：盛放氢氟酸、王水、酸碱蚀刻液、SC1/SC2 清洗液的耐腐蚀槽体，可带排液阀、溢流口、槽盖；有方槽、圆槽、超声波清洗槽款式 PTFE 花篮（载具）：槽内配套托架，卡槽定位硅片、晶圆、ITO 导电玻璃、光学片、电池片，可手提整体放入 / 取出槽体浸泡清洗 二、材质优势（高纯 PTFE / 电子级 PFA） 超强耐腐蚀：耐 HF 氢氟酸、浓硫酸、王水、强碱、各类光刻剥离液、有机溶剂，不被腐蚀溶胀 化学零析出：金属杂质本底 ppb 级，无离子析出，避免晶圆、样品二次污染，适配半导体超净制程、ICP 痕量实验 耐温范围：-200℃～+260℃，可电热板加热蒸煮、高温酸洗 不粘易清洁：表面光滑不挂药液残留，疏水防吸附；绝缘、耐老化、长期泡酸不变形
三、主要应用场景 半导体行业：硅片 RCA 湿法清洗、光刻去胶、蚀刻、剥膜、漂洗工序 光伏新能源：硅片制绒清洗、电池片酸洗钝化 实验室痕量分析：器皿酸泡、消解罐浸泡、低本底前处理 光学 / 显示：ITO/FTO 玻璃、盖板玻璃、掩膜板清洗蚀刻
